一☁₪、半導體行業雙溫區充氮潔淨烤箱主要技術引數
1.內膽尺寸◕│₪↟：（寬650*高500*深500mm）*2▩│✘↟，上下兩個溫區▩│✘↟，溫度互不影響；
2.外形尺寸◕│₪↟：寬1540*高1600*深850mm；
3.溫度範圍◕│₪↟：室溫～+270℃；
4.溫度波動度◕│₪↟：±1℃；
5.爐內溫差◕│₪↟：±1℃(空載☁₪、恆溫狀態)；
6.迴圈風方式◕│₪↟：二面水平運風▩│✘↟，≥1200立方/時；
7.總功率◕│₪↟：21KW；

二☁₪、半導體行業雙溫區充氮潔淨烤箱箱體結構特徵
1.外殼材料◕│₪↟：採用2.0mm厚A3冷板,折彎焊接製作；
2.表面處理◕│₪↟：表面打磨☁₪、拋光▩│✘↟，整機外殼高溫靜電噴塑處理(RAL7035)▩│✘↟，裝置滿足10K級無塵車間使用；
3.內膽材料◕│₪↟：採用1.5mm厚SUS304鏡面不鏽鋼板製作▩│✘↟，機身內部全部氬焊滿焊處理▩│✘↟，成全密閉空間▩│✘↟，專業板金施工▩│✘↟，不鏽鋼表面決無括傷且明亮如鏡▩│✘↟，美觀不積塵☁·╃│•。
三☁₪、半導體行業雙溫區充氮潔淨烤箱培訓
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